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第53章 王總工授課1(第1頁)

“賈維斯,‘0.1納米光刻機’制造圖紙是否分析完成?”

“老闆已分析完成,并根據您的要求将‘光源’、‘光學鏡頭’、‘對準’這三個大塊進行了分割,其他部分也已經按照不同的研究方向進行分割。

通過模拟實驗得出,就算單獨部分洩密,也不能造成任何影響。”

“做的好,賈維斯。

根據制造圖紙的切分情況,将其分别發送到中科院相應研究所的郵箱中,注意對郵件進行相應加密保護。”

“明白,老闆。”

………

第二天王昊哲根據安排直接進入中科院光研究所。

光研究所所長張大能,早早在大門口等着了。

見到王昊哲的專車停穩,張大能主動走上前去替王昊哲打開車門。

王昊哲看到張大能的行為十分吃驚“張所長,您這樣客氣可真的是太為難我了,作為前輩您随意點,我們這點沒有上下級的關系。

“我這可不是客氣,而是對您的尊重,我們做科研的人,年紀不是問題,看中的是科研成果,王總工的确是讓我們等人十分的佩服呀!”

“張所長,您可别這樣說,我們還是關注項目本身,這你我也是因為項目才有所成就。

張所長,關于‘0.1納米光刻機’制造圖紙中的‘光源’部分應該已經發送至你們所的郵箱了。”

“王總工,我們在收到制造圖紙的第一時間,已經對其進行了詳細的分析研究,但是還存在一些疑惑。

要不然我帶您去我們新劃分的研究中心,您給我們研究人員和工程師做一個詳細的講解吧。”張大能答道。

此時光研究所新的研究中心已經囊括了龍國在“光源”領域最頂尖的研究者。

他們面對王昊哲所給的圖紙,已經在進行激烈的讨論,制造圖紙中涉及的相關原理和分析已經有些超出他們現在的認知。

看到此狀的張大能打破僵持的場面“各位,王總工來了,先讓他給你們講解一下制造圖紙的相關内容,或許會更有幫助。”

在場的時候研究人員都安靜了下來。

“各位既然,張所長已經說明白了,那我就給大家講一下其具體的設計理念。

光刻的原理是在矽片表面覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠,再用光線(一般是紫外光、深紫外光、極紫外光)透過掩模照射在矽片表面,被光線照射到的光刻膠會發生反應。

我們這次将要實現‘超紫外光’這一光源将能極大的提升相關反應速度。

但是我們還需要解決三個問題:

第一個問題,真空環境約束。

因為光蝕刻系統制造的精細程度取決于很多因素。

但是實現跨越性進步的有效方法是降低使用光源的波長。

從光刻機起源到現在幾十年來,光刻機廠商的做法都是将晶圓曝光工具從人眼可見的藍光端開始逐漸減小波長,直到光譜上的紫外線端(UV)。

現在着名的廠商ASML最終選擇的13.5nm波長射線,可以輕易地被很多材料吸收,所以EUV光刻機隻能在真空下運行。

但是我們的‘超紫外光’可以适應認為廣泛的環境。

第二個問題,彎曲射線。

由于EUV能被玻璃吸收,所以必須在機器中改變其走向,如此一來則必須用反射鏡來代替透鏡,而且必須使用布拉格反射器(一種多層鏡面,可以将很多小的反射集中成一個單一而強大的反射)。

這一問題各位也無需擔心,我的制造圖紙已經做了相應的解釋。

第三個問題,強大光源。

一個EUV光束在經過長途跋涉後,隻有不到2%的光線能保留下來。為了減少成本,射線光源必須足夠強,這個強度需要達到中心焦點功率達到250W。

但是我們所使用的‘超紫外光’已經能實現最終50%的光線保留,所以這方面我們的優勢也很大。

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